Fotolitografijoje naudojami trys pagrindiniai proceso etapai, kad modelis iš kaukės būtų perkeltas į plokštelę: padengti, plėtoti, eksponuoti. Vėlesnio proceso metu raštas perkeliamas į plokštelės paviršinį sluoksnį. Kai kuriais atvejais rezisto raštas taip pat gali būti naudojamas nusodintos plonos plėvelės raštui apibrėžti.
Kas yra fotolitografija Kaip tai veikia?
Fotolitografija yra piešimo procesas, kurio metu šviesai jautrus polimeras selektyviai veikiamas šviesa per kaukę, paliekant latentinį vaizdą polimere, kurį vėliau galima pasirinktinai ištirpinti, kad būtų gautas raštas. prieiga prie pagrindinio substrato.
Kodėl naudojama fotolitografija?
Fotolitografija yra vienas iš svarbiausių ir paprasčiausių mikrogamybos metodų ir naudojamas kuriant detalius medžiagos raštus. Taikant šį metodą, forma arba raštas gali būti išgraviruotas, šviesai jautrų polimerą selektyviai veikiant ultravioletine šviesa.
Kodėl fotolitografijoje naudojama UV šviesa?
Fotolitografija leidžia 3D kapsuliuoti ląsteles hidrogeliuose, sujungiant ląstelių turintį prepolimerą UV šviesoje. Norint gauti norimą raštą, naudojama fotokaukė [88].
Kokie yra fotolitografijos reikalavimai?
Apskritai fotolitografijos procesui reikia trijų pagrindinių medžiagų, šviesos š altinio, fotokaukės ir fotorezisto. Fotorezistas, šviesai jautri medžiaga,yra dviejų tipų – teigiamų ir neigiamų. Teigiamas fotorezistas tampa labiau tirpus po poveikio šviesos š altiniui.
Photolithography: Step by step
